在半導體制造中，超純水（UPW）中的溶解氧即使低至1 µg/L（1 ppb），也可能引發(fā)晶圓氧化、金屬沉積等致命缺陷。但普通溶氧儀最-低僅能測到100 µg/L，根本無法滿足需求。

手持式溶解氧分析儀憑借0.01 µg/L超高分辨率 + 膜法免維護傳感器，成為超純水痕量氧監(jiān)控的關鍵工具。

? 為何必須用它？

• 量程精準匹配：覆蓋0.01 µg/L–20 mg/L，完-全滿足SEMI F63標準對UPW氧含量≤1 µg/L的要求

• 無污染設計：物理膜法測量，不添加電解液，避免引入離子污染

• 快速響應：＜15秒出結(jié)果，支持在線取樣點即時檢測

某12英寸晶圓廠將該儀器用于拋光后清洗段水質(zhì)巡檢，成功攔截一次因氮封失效導致的氧濃度緩慢上升事件，避免整批晶圓報廢。

手持式溶解氧分析儀不僅是“測氧"，更是守護芯片良率的隱形防線。